De Nederlandse regering verzet zich tegen voorgestelde Amerikaanse exportbeperkingen gericht op ASML. Jetten, koning Willem-Alexander en koningin Máxima woonden maandag een diner in het Witte Huis bij, georganiseerd door president Donald Trump. “Dit is zeker een van de kwesties die daar aan de orde moeten worden gesteld”, zei de premier tegen het ANP. Jetten noemde de bijeenkomst later constructief en nuttig en merkte op dat er discussies plaatsvonden over gevoelige kwesties zoals handels- en exportcontroles.
Hij bracht het ook ter sprake tijdens een bijeenkomst met economische adviseurs in het Witte Huis. Hij zei dat er bij de gesprekken sprake was van enige onenigheid, waarbij beide partijen elkaars standpunten erkenden zonder consensus te bereiken. Jetten benadrukte ook de noodzaak van een voortdurende dialoog met de Verenigde Staten over mogelijke exportbeperkingen die gevolgen kunnen hebben voor Europese bedrijven als ASML.
Volgens hem is het “een van de belangrijkste redenen” waarom hij naar de Verenigde Staten reisde. “Ik vind het ook belangrijk dat ze niet alleen van ASML horen wat goed of minder goed is voor ASML, maar dat ze ook van de premier horen hoe wij tegen de situatie aankijken.”
Amerikaanse wetgevers hebben een plan voorgesteld om de export van hoogwaardige chiptechnologie naar geallieerde landen te beperken. Deze stap zou gevolgen kunnen hebben voor ASML, omdat de apparatuur deels afhankelijk is van Amerikaanse onderdelen en software.
De door Jetten besproken voorgestelde Amerikaanse exportcontroles zijn opgenomen in de Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware (MATCH) Act. De wetgeving, gesteund door een partijoverschrijdende groep onder leiding van Michael Baumgartner, heeft tot doel de beperkingen op de export van specifieke DUV-lithografieapparatuur naar Chinese halfgeleiderbedrijven aanzienlijk aan te scherpen en mazen in de wet te elimineren die in de coördinatie met geallieerde landen worden gebruikt.
Hoewel het ASML al verboden is om EUV-apparatuur naar China te exporteren, zou de MATCH Act nog verder kunnen gaan door de controles op specifieke DUV-lithografiesystemen te versterken en indirecte oplossingen zoals onderhoudsdiensten en software-upgrades te beperken.
